PICOSUN原子层沉积系统-其它-仪器设备-生物在线

产品名称： PICOSUN原子层沉积系统

英文名称： ALD

产品编号： R-200

产品价格： 0

产品产地：芬兰

品牌商标： PICOSUN

更新时间： null

使用范围： null

北京伯英科技有限公司

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芬兰PICOSUN公司是ALD技术发明人Tuomo Suntola创立的，与Picosun专家队伍被称为ALD的梦之队。

Suntola于1974年发明ALD技术，因此获得半导体行业European SEMI 2004奖。

PICOSUN公司凭借其杰出的生产型与科研型产品，于2022年6月加入美国应用材料公司。

PICOSUN产品分为科研型与生产型。

科研型产品有：

标准型PICOSUN™ R-200 Standard，只有热法原子层沉积系统

高级型PICOSUN™ R-200 Advanced，有热法原子层沉积系统与等离子体增强原子层沉积系统

高级型ALD可以添加前沿的微波等离子体辅助增强模块Microwave Plasma, 这种微波等离子体增强原子层沉积系统在颗粒、薄膜致密性表现更好，同时有可能沉积具有挑战性的一些氮化物薄膜，如氮化硅等。