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多舱体式等离子体增强化学气相沉积/蚀刻系统 (装载互锁式、PEVCD、ETCH、沉积、薄膜沉积)

多舱体式等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)/蚀刻(ETCH)系统、IL-50多舱体式PEVCD/ETCH系统IL-50多舱体式等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)/蚀刻(ETCH)系统具有沉积薄膜在光电池上的能力,提供精密的镀膜性能。在不破坏真空的情况下,可以大沉积四种薄膜。

产品货号:IL-50 多舱体式等离子体增强化学气相沉积/蚀刻系统 (装 产地:原装进口 等离子处理系统 价格:询价 点击数:2211 商家询价

垂直提拉机(GIK沉积镀膜仪,浸涂机,浸涂仪,浸胶机,浸渍涂膜机,浸渍提拉涂膜机,升降浸涂机,多槽)

浸涂仪(GIK沉积镀膜仪,垂直提拉机,浸胶机,浸涂机,浸渍涂膜机,浸渍提拉涂膜机,升降浸涂机,多槽)

产品货号:MV浸涂仪(沉积镀膜仪,垂直提拉机,浸胶机,浸涂机,浸渍涂膜 产地:原装进口垂直提拉机(GIK沉积镀膜仪,浸 价格:询价 点击数:5764 商家询价

300型钠离子分析仪(钠火焰光度计、钠离子浓度计、浓度分析仪、在线、台式、不锈钢、蒙乃尔合金、PVC材料和硅树脂、单光束分光光度计,使用火焰发射源、单色仪和光电

300型钠离子分析仪(钠离子分析仪、钠火焰光度计、钠离子浓度计、在线钠离子分析仪、台式钠离子分析仪、钠离子浓度分析仪)  (钠火焰光度计、不锈钢、蒙乃尔合金、PVC材料和硅树脂、单光束分光光度计,使用火焰发射源、单色仪和光电倍增探测器)

产品货号:300型钠离子分析仪(钠火焰光度计、钠离子浓度计、浓度分析仪 产地:原装进口300型钠离子分析仪(钠火焰光度 价格:询价 点击数:3335 商家询价

可编程匀胶旋转涂布涂层旋涂仪

可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪、旋涂仪、涂膜仪、涂覆仪、甩胶机、Programmable Spin Coater 薄膜沉积、粗饲料研究、资料控制、半导体薄膜、金属及玻璃、有机薄膜制备,光学镀膜及磁膜、液固界面镀膜、半导体、化工材料、硅片、晶圆片、光学玻璃、化学玻璃 原装进

产品货号:Spin-X 产地:原装进口可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪 价格:询价 点击数:3567 商家询价

等离子体表面改性处理仪

产品介绍:等离子体表面改性处理仪(P-5)P-5等离子体表面改性处理仪是一款经济型的台式等离子体表面改性处理仪,该款台式等离子体表面改性处理仪提供了许多功能,而这些功能是其它竞争设备上无法找到的。PE-5台式等离子体表面改性处理仪是专门为小型生产企业,研发实验

产品货号:P-5 产地:进口 价格:询价 点击数:5981 商家询价

福德查近红外(NIR) 食品成分分析仪

产品介绍:近红外(NIR) 食品分析仪、近红外食品分析仪、近红外(NIR) 食品成份分析仪、近红外(NIR) 食品品质分析仪福德查™近红外(NIR)食品分析仪可配置用于透射或反射的食品分析应用,该近红外(NIR)食品分析仪具有防水密封不锈钢机壳,可方便维护及清洗。专利电磁控

产品货号:福德查近红外(NIR) 食品成分分析仪 产地:原装进口福德查近红外(NIR) 食品成分 价格:询价 点击数:3470 商家询价

卷对卷等离子蚀刻系统

产品介绍:P-20R 卷对卷等离子刻蚀系统 P-20R卷对卷等离子系统是一款专门配备连续给料驱动的等离子系统,适用于连续柔性基片及卷装材料。 卷对卷等离子系统可以喂入宽幅为50.8毫米至609毫米,轴径为254毫米的成卷材料。 卷对卷等离子刻蚀系统纵览卷对卷等离子刻蚀系统提

产品货号:P-20R 产地:进口 价格:询价 点击数:1846 商家询价

感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统(深反应离子刻蚀、刻蚀及沉积、低温等离子体增强、化学气相沉积、等离子处理系统)

感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积、深反应离子刻蚀(DRIE)及低温等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)、BM8-III 感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统高性能深反应离子刻蚀(DRIE)及低温等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)等离子处理系统

产品货号:BM8-III感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统(深反应 产地:原装进口感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉 价格:询价 点击数:1744 商家询价

接触角测量仪

视频成像(VCA)接触角测量仪系统奥普特TM系列视频成像(VCA )接触角测量仪采用轻量化的设计、组装方便和新的基于Windows™标准的用户友好型软件,以创建一个即精准容又容易使用的接触角测量仪系统。奥普特TM系列视频成像(VCA )接触角测量仪系统适用于研究或研发

产品货号:VCA 产地:原装进口接触角测量仪 价格:询价 点击数:8430 商家询价

反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进

BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。

产品货号:BM8-II 反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻 产地:原装进口 反应离子刻蚀/沉积等离子处理 价格:询价 点击数:2092 商家询价